武汉大学微电子与信息技术研究所的组成
研究室有两位教授、博士生导师和两位有博士学位的年轻讲师。致力于开发具有自主知识产权的快速、准确、高性能的超深亚微米集成电路电子设计自动化软件。目前集成电路已经发展到超深亚微米阶段，几平方厘米的芯片上可以集成上千万个晶体管，导致集成电路的设计只能通过EDA平台。EDA平台是以计算机为基础，集成了应用电子技术、计算机技术和智能技术的最新成果的电子设计通用工具软件。涵盖了电子设计、建模、仿真、验证、制造全过程的所有技术。王高峰教授带领EDA软件工程研究室成功开发了互连寄生参数提取工具集，包括器件级(晶体管级)参数提取和全芯片参数提取。该软件主要用于从版图中提取互连之间的寄生参数，包括寄生电容(C)和寄生电感(L)。输出包括各种寄生参数的电路网表进行仿真验证，以确保真正制造的集成电路满足设计要求。到目前为止，已经设计了QXT1.0和QXT2.0两个版本。
研究室成员:、梁、孙、王。
数字集成电路实验室
研究室有三位教授、博士生导师和一位副教授。李元祥教授将可编程逻辑器件的可重构特性与进化算法相结合，提出了一种新的硬件设计方法。通过模拟自然进化过程，将进化算法应用于硬件电路和电子电路系统的自动设计，使硬件具有自适应、自组织、自修复的进化特性，能够根据环境的变化改变其配置和结构，动态适应生存环境。②曹阳教授、李德石教授专注于IP核心技术的研究与设计。③姜显扬副教授参与的立山RISC CPU设计和曙光超算系统开发已转化为产品并得到应用。
研究室成员:姜显阳、曹阳、李德石、李元祥。
集成电路工程应用中心
这个研究室有一名教授、博士生导师、一名教授和一名有博士学位的青年讲师。主要从事嵌入式操作系统研究、嵌入式软件设计、图像采集、处理和传输研究。①嵌入式操作系统的研究主要针对ARM9平台，裁剪嵌入式Linux、WinCE等嵌入式操作系统，移植到特定的平台上，设计一个好的操作系统内核和应用操作界面。②在图形图像处理算法和硬件电路设计方面积累了丰富的实践经验，其中主要研究技术包括:A)ADI DSP技术及其应用；B)TI系列DSP技术及应用；C)FPGA技术及其应用；d)高速大容量数据采集和记录技术；e)图像信号发生器；f)高速海量图像处理平台等。集成电路工程中心开发具有自主知识产权的技术和系统，满足国家和行业部门的需求。工程中心将是我们实验室服务社会的主要机构。通过这个工程中心，将实验室的科研成果转化为实用成果，并承担和管理横向合作项目。
研究室成员:邓德祥、胡成功、陈。
射频和微波集成电路实验室
这个研究室有一个教授，一个副教授，一个有博士学位的青年讲师。实验室以射频和数模混合集成电路设计、射频和微波器件建模、射频和微波电路EDA软件工具开发为三大主要发展方向。通过整合武汉大学现有的射频与微波研究资源，可以提高射频与微波集成电路研究的科研水平，进一步推动科研成果的产业化，积极推动与国内外知名企业、公司、科研机构建立科研实验室。
研究室组成人员:蒋、陈、齐畅。
光学集成电路实验室
研究室有教授、博士生导师、教授、副教授。本实验室的研究主要集中在以下两个方面:①新型集成光学器件的建模、仿真和CAD工具开发；②光互连的建模、仿真和CAD工具开发。他在光集成电路领域有着丰富的研究和教学经验。窦仁生教授长期从事光学和激光技术的科研和工程工作，研制了空心阴极气体激光器、用于精密仪器检测和组装的光学工作平台、用于光通信器件生产的光学设备等。从事光子相干光谱、光学模式识别、图像处理、自适应光学等实验研究。发明了一种自适应光学系统，其可以通过使用单个液晶光学空间调制器同时测量和校正光波面。曾立波教授是中国仪器仪表学会分析仪器分会理事，分析仪器学会微量分析仪器专业委员会委员。主持国家十五重点项目“光谱成像分析系统的研究与开发”，项目经费400万元。作为核心成员参与了国家十五重点项目“科学仪器通用软件平台的研发”和国家九五重点项目“阿达玛变换显微图像分析仪”。主持完成多项重大项目，鉴定(验收)结论优秀，达到国际先进水平。研究成果多次入选科技部大型仪器改造技术推广项目，在清华大学等80多家单位使用，受到广泛好评。成功研制的用于显微可见光谱成像滤光片的电调滤光片在显微图像分析的许多领域取得了显著的成就。
研究室成员:曾立波、窦仁生、石新志。
半导体器件实验室
半导体器件实验室主要研究集成电路中使用的微纳电子器件的建模、仿真和设计。随着集成电路产业的不断发展，芯片体积不断缩小，典型的加工尺寸已经从微米级变成了纳米级(λ
研究室成员:、黄、常胜。
MEMS器件和工艺实验室
研究MEMS CAD技术，用于辅助MEMS产品在正式试片前的设计，1)模拟MEMS器件，了解力、热、电磁能在小范围内的相互作用。2)实现MEMS设计和性能分析的高速化、自动化和可视化，实现加工工艺的参数化控制，优化MEMS结构和工艺，降低试制成本；3)缩短设计制造周期，提高制造工艺的可重复性，从而大大提高MEMS器件的性价比，增强市场竞争力。预期目标:开发一种可实用化的新型微流控装置；开发微纳系统级和器件级MEMS CAD工具，实现MEMS建模、仿真和可视化。总的来说，我们的MEMS实验室将致力于MEMS器件的设计、仿真验证、加工工艺和系统集成的研究。
研究室的人员有国方、刘峰和周歧发。